Тэнцвэргүй Магнетрон цацах үед плазм мөн субстрат руу татагдана, мөн аргон ионууд өсөн нэмэгдэж буй нимгэн хальсыг бөмбөгддөг. … Субстратын эргэн тойронд электронууд байгаа нь төвийг сахисан хийн атомуудыг иончлох ба плазмыг энэ бүсэд нэвтрүүлэхэд хүргэдэг.
Магнетрон яагаад цацдаг вэ?
Магнетрон цацах нь электронуудыг барихын тулд хаалттай соронзон орныг ашиглан эхний иончлолын процессын үр ашгийг нэмэгдүүлж, бага даралттай плазмыг үүсгэж, өсөн нэмэгдэж буй хийн суурь хийн нэгдлийг хоёуланг нь бууруулдаг. хийн мөргөлдөөний улмаас цацагдсан атом дахь хальс ба энергийн алдагдал.
Магнетрон цацахад юу хэрэглэж болох вэ?
5 Магнетрон шүрших тунадас. Магнетрон шүрших нь металл, керамик зэрэг олон төрлийн материалыг тусгайлан үүсгэсэн соронзон ашиглан аль болох олон төрлийн субстратын материал дээр буулгах боломжийг олгодог өндөр хурдтай вакуум бүрэх техник юм. талбарыг диод цацах зорилтод ашигласан.
Хаалттай талбарын тэнцвэргүй магнетрон цацалт гэж юу вэ?
Teer Coatings Ltd-ийн бүтээсэн Хаалттай талбарт тэнцвэргүй магнетрон цацагч ион бүрэх систем нь оновчтой тунгаах нөхцөлийг бий болгож, маш сайн наалддаг нягт, хатуу хучилтыг шингээх боломжийг олгодог. CFUBMSIP-ийн зохицуулалтыг Teer Coatings Ltd. -д олгосон патентаар хангана.
Тэнцвэргүй магнетрон гэж юу вэ?
Магнетроныг ихэвчлэн "тэнцвэртэй" эсвэл "тэнцвэргүй" гэж ангилдаг. … Хэрэв тэг цэг нь зорилтот гадаргуутай ойрхон байвал электронууд илүү амархан зугтаж чадна ба магнетрон тэнцвэргүй болно. Тэнцвэргүй загвар нь тунадасжилттай зэрэгцэн нимгэн хальсанд өндөр ионы бөмбөгдөлт үүсгэж болно.
